IVD的意思

    「IVD」經常作為「Ion Vapor Deposition」的縮寫來使用，中文意思：「離子氣相沉積」。

IVD（離子氣相沉積）詳細解釋

• 英文縮寫詞：IVD
• 英文單詞：Ion Vapor Deposition
• 中文簡要解釋：離子氣相沉積
• 流行度：6239
• 分類：Academic & Science
• 領域：Chemistry

以上為Ion Vapor Deposition英文縮略詞IVD的中文解釋，以及該英文縮寫在英語的流行度、分類和應用領域方面的信息。

英文縮寫IVD的擴展資料

1. Strengthening effect and acting mechanics of RE elements were mainly studied in diffusing implantation, ion infiltration and vapor deposition.擴散滲入中，稀土元素主要起到催滲和微合金化的作用；
2. DLC films were deposited at 120 ℃ using ion beam implantation assisted vapor deposition of mineral oil.采用碳離子束注入輔助蒸發礦物油的方法在120℃低溫沉積了DLC薄膜；
3. Phosphine ( PH3 ) is an important electronic specific gas which is mainly used in fields of N-type semiconductor doping, ion implement and chemical vapor deposition ( CVD ) etc.磷化氫（PH3）是一種重要的電子特氣，主要用于n型半導體的摻雜、離子注入和化學氣相沉積（CVD）等。
4. Progress in Preparation of Thin Film Electrodes for Lithium Ion Batteries by Physical Vapor Deposition物理氣相沉積制備鋰離子電池正極薄膜研究進展
5. The various preparation methods of a-C : H thin films, including plasma deposition, ion beam deposition, sputtering and chemical vapor deposition, were described in detail in this paper.本文詳細介紹了a-C∶H薄膜的各種制備方法，包括等離子體淀積法、離子束法、濺射法和化學汽相淀積法等，給出了某些典型的實驗條件。

「Ion Vapor Deposition」的縮寫「IVD」意思是「離子氣相沉積」。